Mecanismo de Imagem da Placa CTP Térmica
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Os dados mostram que a placa CTP em 2003 foi responsável por cerca de 30% do total da chapa global, e espera-se que atinja mais de 60% em 2007. Entre eles, a tecnologia térmica CTP é atualmente a que mais cresce. A capacidade instalada global de CTP térmica é responsável por cerca de 60% do total, e representa mais de 55% na China. A razão pela qual a tecnologia térmica se desenvolveu tão rapidamente é que ela possui as vantagens de alta durabilidade de impressão, alta resolução e operação brilhante da divisão, sendo reconhecida como a futura direção de desenvolvimento da tecnologia CTP.
Muitos tipos de placas CTP térmicas foram desenvolvidos por fornecedores de placas de renome mundial. A versão térmica do CTP é dividida em dois tipos: o tipo de imagem negativa e o tipo de imagem positiva. A versão CTP do tipo de imagem negativa é parcialmente exposta quando a varredura de infravermelho é executada, e o tipo de imagem positiva é a exposição parcial não gráfica. Além disso, a placa CTP que não requer desenvolvimento após a exposição é chamada de placa sem processo, e atualmente é um hot spot para vários fornecedores de chapas. O mecanismo de geração de imagens da versão térmica CTP é variado, e a versão CTP pode ser classificada de acordo com sua diferença. O seguinte descreve o mecanismo de geração de imagens e a aplicação de várias placas CTP térmicas.
1, material de placa térmica CTP tipo negativo
1.1 Imagem CTP de imagem negativa com reticulação de calor pré-aquecida antes do desenvolvimento
Este é o primeiro produto desenvolvido, a tecnologia é muito madura, comercialização, praticidade e aplicação. Atualmente, todos os fornecedores de chapas têm produção.
Tais placas são tipicamente formadas por aplicação uniforme de uma camada sensível ao calor a um substrato de poliéster granulado e anodizado ou revestido. A camada sensível ao calor inclui tipicamente uma resina formadora de película, um agente de reticulação, um corante absorvente de infravermelhos e um gerador de ácido fototérmico. O mecanismo de imagem é: quando a luz infravermelha ilumina a placa, o corante infravermelho absorve a energia da luz em energia térmica, e o gerador de ácido gera ácido. Sob a catálise do ácido, a resina na área exposta é reticulada para formar uma imagem latente. Após o tratamento pré-aquecimento, a resina na região exposta é suficientemente reticulada, e a região não exposta não reage. As áreas não expostas foram removidas por desenvolvimento de lixívia.
Placa base CTP negativa com tinta de base de 1,2
Tais placas são geralmente placas deslocadas sem água, cuja superfície à base de alumínio é uma camada de óxido de metal hidrofílico, que é de facto também receptivo à tinta. O sub-revestimento do material da placa é do tipo fotodecomposável e serve como uma camada de imagem fotossensível e uma resina aglutinante para a placa de colagem e o revestimento superior. A camada superior é uma borracha de silicone curada e reticulada que é oleofóbica e não absorve a radiação infravermelha.
Seu mecanismo de imagem é: quando a luz infravermelha ilumina a placa, a camada de sub-cobertura sofre reação de fotodecomposição e a adesão entre a resina aglutinante e a borracha de silicone na área exposta é reduzida e a borracha de silicone na área exposta é removida durante o desenvolvimento. a decomposição é executada. A resina de revestimento expõe a superfície do substrato para formar uma parte da imagem repelente de tinta.
O desenvolvimento pós-exposição de tais meios utiliza tipicamente decapagem mecânica ou limpeza com solvente para remover o gel de sílica. Portanto, a camada de silicone pode ser arranhada ou esfregada durante o desenvolvimento para danificar o layout. Além disso, o KPG desenvolveu uma versão CTP baseada em tinta baseada em base livre de processo, que será descrita posteriormente.
2, material de placa CTP térmico de tipo positivo
2.1 Tipo de mudança de solubilidade imagem positiva CTP plate material
A estrutura de tal placa é geralmente revestida com uma camada sensível ao calor numa placa hidrofílica, e a camada sensível ao calor é insolúvel numa solução alcalina em desenvolvimento e é receptiva à tinta. O mecanismo de geração de imagens é: quando o laser infravermelho é escaneado, a área exposta é física ou quimicamente alterada para se tornar alcalina solúvel em água, e a parte exposta é removida por uma solução de revelação alcalina.
A tecnologia patenteada é que a camada sensível ao calor é composta de uma resina formadora de filme, um agente absorvedor de infravermelho, um solvente resistente e outros auxiliares. Antes da exposição, o solvente resistivo forma uma associação de ligação de hidrogênio com a resina formadora de filme, causando um efeito de barreira que dificulta sua dissolução na lixívia. No caso de exposição ao infravermelho, o agente de absorção de infravermelho gera calor, de modo que a composição sensível é decomposta e combinada, de modo que a solubilidade na lixívia é aumentada para alcançar a imagem de desenvolvimento. Este processo é geralmente considerado como um processo de mudança física. Tais camadas de imagiologia incluem polímeros solúveis em álcalis e camadas de pele sensível a infravermelhos que não são penetradas pelo revelador.
2.2 Placa CTP de reticulação térmica com pré-aquecimento
Sua composição de imagem inclui uma resina solúvel em álcali, um ácido prótico latente, um agente de reticulação e um absorvedor de infravermelho (negro de fumo). O mecanismo de geração de imagens é: quando o laser infravermelho é irradiado, o efeito desconhecido da área exposta ainda pode reter uma boa solubilidade alcalina; a parte não exposta não muda. Durante o processo de tratamento pré-aquecimento antes do desenvolvimento, a área não exposta sofre uma cura reticulada térmica com base em uma reação catalisada por ácido (a presença de um ácido protônico latente), que reduz a solubilidade do álcali; enquanto a área exposta permanece solúvel em álcali. A solução alcalina em desenvolvimento remove a porção exposta durante o desenvolvimento.
Este processo de imagiologia de placa é exactamente o oposto da versão CTP negativa reticulada por calor convencional, na qual as partes reticuladas e não reticuladas são apenas ajustadas. Isso ocorre porque o agente absorvedor de infravermelho utilizado é diferente do padrão negativo, no qual o negro de carbono e o ácido protônico gerado pela exposição infravermelha têm um efeito desconhecido, de modo que a área exposta ainda pode manter a solubilidade alcalina.
3, livre de processamento de material de placa CTP
De acordo com os dados, todas as empresas tomaram a placa CTP térmica livre de tratamento como a principal direção de pesquisa, e propuseram um grande número de planos de projeto, e novos planos estão sendo constantemente propostos. Isso ocorre porque essa placa pode economizar custos de processamento de desenvolvimento e melhorar a eficiência.
3.1 tipo de mudança de polaridade placa CTP sem processamento
O mecanismo de geração de imagens deste tipo de placa é que todo o layout é geralmente hidrofílico antes da exposição, e a polaridade da área exposta muda durante a varredura de infravermelho. Essa mudança pode ser física ou química. Esta porção é feita hidrofílica para oleofílica. Depois que a placa de impressão é exposta, não é necessário executar o processo de desenvolvimento, ou seja, os requisitos de impressão são atendidos. Esse processo é mostrado na Figura 5. Naturalmente, há também alguns projetos que primeiro projetam o layout para serem lipofílicos, e a polaridade é aumentada para se tornar hidrofílica durante a exposição, de modo que haja uma zona hidrofílica e oleofílica na placa de impressão, e não precisa ser desenvolvido.
Existem muitos esquemas de design e métodos para alterar a polaridade da placa de impressão. Em resumo, pode ser dividido em modo físico e modo químico. A placa de mudança de polaridade física geralmente possui algumas partículas de polímero termoplástico hidrofóbico dispersas em uma resina aglutinante hidrofílica. As partículas termoplásticas têm uma temperatura de aglomeração crítica, que amolece ou funde sob calor para fazer com que as partículas se agreguem, na camada hidrofílica. Agregados hidrofóbicos são formados no meio. Placa Química Polarizada A resina termossensível é tipicamente um homopolímero ou copolímero contendo grupos funcionais polares pendentes que reagem sob ação térmica com outros grupos funcionais para formar uma estrutura hidrofóbica.
3.2 Tipo de ablação por infravermelhos de processamento livre de material de placa CTP
A placa CTP do tipo de ablação por infravermelhos é uma placa térmica de tipo positivo que utiliza metal como uma camada fundida. A camada de metal fundido é revestida sobre uma placa de alumínio hidrofílico que é lipofílica. O mecanismo de geração de imagens é que a camada de metal na região exposta é derretida em gotículas sob radiação de laser de alta intensidade, e o ângulo de contato com a base da placa de alumínio torna-se grande e pode ser removido sem desenvolvimento, expondo a base da placa hidrofílica. O processo é mostrado na Figura 6.
A outra é aplicar uma camada repelente de tinta no substrato com partículas de metal como uma camada hidrofílica do agente de conversão fototérmica. As partículas de metal podem ser fragilizadas durante a exposição ao escaneamento e podem ser facilmente removidas. Alternativamente, a camada hidrofílica do óxido de metal ou hidróxido de metal e a resina hidroxi contendo ácido podem ser revestidas na camada receptora de tinta, por vezes com uma camada superficial hidrofílica.
Material de placa CTP livre de processamento de tipo base livre de tinta de 3,3
Esta é uma placa de impressão offset sem água. A placa é primeiro revestida com uma camada intermédia repelente de tinta no substrato e depois revestida com um copolímero de silicone especial na camada receptora de tinta. Este copolímero de silicone repelente de tinta age como uma camada sensível ao calor e é termicamente decomposto. O mecanismo de imagiologia é que a camada sensível ao calor da região exposta sofre uma reacção de decomposição térmica, e estes copolímeros de silicone decompostos são facilmente removidos durante o processo de exposição ou o procedimento usual após exposição para expor a camada repelente de tinta intermédia.

